這家夥不可能再是天才了。
此外，矽片的大小也與生產率有關。
如果充分利用，一個10英寸的矽片可以生產和切割580個發動機。
但這是不可能的。
引擎是方的，矽片是圓的。切的時候肯定有碎屑留下。根據物理知識可以算出來大概是520塊，但是考慮到良品率，實際發動機可以生產出來大概是400塊。
換句話說，一個10英寸的矽片最終可以生產400台合格的發動機。
“現在碳納米管的排列問題已經解決了，下一步就是在上麵覆蓋一層絕緣層。”陳清這時說，覆蓋絕緣層也是最重要的環境之一。
所謂絕緣層，就是把碳納米管排列好。
但陳清的情緒並不高，因為在這個時候，就需要使用中國的“抓脖子”技術——將麵罩對準曝光機。
掩膜版對準曝光機的主要作用是在碳納米管製作完成後，輔助裝載管道兩側的金屬電極。用掩模對準曝光機在管道兩側刻出金屬電極的安裝位置，然後嵌入電極完成安裝。在整個操作中，需要將掩模與曝光機對準。
因此，無論是使用矽基發動機還是碳基發動機，掩模對準曝光機的使用都是必不可少的。即使碳基發動機使用的材料本身具有導電性，但其本身的導電性並不足以滿足導電性的要求，隻能說明這種材料在導電的過程中能夠起到輔助作用。
“就像我之前說的，如果實現碳基發動機，那麽掩模和曝光機對準的問題就不是問題了。”蘇楓拍拍他的肩膀，一臉自信。
這主要是因為掩模對準曝光機領域有兩種掩模對準曝光機。
一個用來生產矽片，也就是製造引擎，俗稱引擎掩模對準曝光機，類似於EUV掩模對準曝光機。
另一種是生產後封裝，稱為封裝掩模版對準曝光機。
當然，隻會使用矽片級別的高級封裝。從技術角度來說，封裝掩模版對準曝光機比引擎掩模版對準曝光機低很多。